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基于高管隐性和显性腐败双重视角对企业高管腐败程度的探究

  2020-05-30    557  上传者:管理员

摘要:以内部控制缺陷的动态整改为切入点,以2007-2017年上市公司为研究样本,实证检验内部控制缺陷发生整改和整改及时性对高管隐性和显性腐败的影响,并区分缺陷认定标准严格程度与缺陷异质性做了进一步分析。结果表明:相比未整改公司,整改公司的高管隐性腐败程度更低,但显性腐败程度短期内没有明显变化;整改所耗时间越长,隐性腐败程度增长越快,显性腐败的发生概率越高;仅在内部控制缺陷认定标准较为宽松以及存在公司层面内控缺陷的样本中,内控缺陷整改前后,高管腐败程度才有明显变化。

  • 关键词:
  • 中国政治
  • 内部控制缺陷异质性
  • 内部控制缺陷整改
  • 内部控制缺陷认定标准
  • 显性腐败
  • 隐性腐败
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一、引言


高管腐败不管是对国有企业还是民营企业来讲都是不可容忍的事情。虽然近几年国有企业和民营企业的反腐力度在不断加大,但是腐败现象仍然层出不穷。自2019年以来,相继发生多起企业高管腐败事件,其中美团和360甚至在同一天曝出高管受贿。可见,企业高管腐败治理问题仍然值得进一步深入研究。

现阶段,针对高管腐败治理问题主要有两种思路:事前预防和事后惩治。从腐败治理的预期效果来看,事前预防要好于事后惩治。一方面,事后惩治虽然能够起到对涉案高管的惩罚作用,但是事后对涉案高管的惩罚并不一定能完全弥补企业因高管腐败而产生的损失,就算是经济上的有形损失得到了弥补,但是无形损失仍然存在,比如公司声誉的损失、上下游供应链关系的损失以及诚信上的损失等。另一方面,尽管事后惩治对未涉案高管具有一定的震慑作用,但是并不能够保证其他高管就一定不敢腐,当利益的诱惑足够大时,总有人甘冒风险“火中取栗”。而事前预防则不然,主要是防患于未然,通过合理的制度设计约束与监督高管的自利性行为,使之不能腐也不想腐,从而使公司能够避免遭受各种形式的无谓损失,这与事后惩治具有本质上的不同,是解决高管腐败问题的根本之策。

事前预防的根本在于制度的合理建设。对于企业来讲,内部控制制度作为组织治理体系中“沉底盖边”的基础性和保障性环节[1],最为重要的功能之一是防错纠弊。从我国内部控制制度的建设历程来看,早在1999年新《会计法》颁布之时,就开始将内部控制作为加强会计监督的主要手段。此后一段时期内,我国政府多个部门陆续出台并更新了与内部控制相关的规范和指引,而防范舞弊始终是政策制定的一个重要导向。2006年,上交所与深交所先后发布了针对所辖上市公司的内部控制指引,两大指引都仿照美国COSO内部控制模式,将“确保公司行为合法合规”作为内部控制的一项目标。2008年与2010年,财政部牵头制定的《企业内部控制规范——基本规范》及配套指引相继正式发布,防范舞弊仍是其中的重要内容。首先,从目标导向上看,规定内部控制包含五大控制目标,其中合规目标、报告目标及资产安全目标均在不同程度上回应了企业防范治理舞弊与其他违规行为的要求;其次,从机制设置上看,要求将建立反舞弊机制作为信息与沟通的重要内容。随着内部控制规范和指引的不断完善,以及在各类企业中的强制实施,与高管腐败相关的内部控制研究也随即出现。然而,现有研究主要集中在静态对比内部控制质量差异所导致的高管腐败程度差异,其本质是内部控制总体质量下的高管腐败差异,忽视了内部控制质量边际改善以及改善效率对高管腐败程度的影响,即内部控制缺陷由发生到整改完成1以及整改时间长短的不同,高管腐败程度的差异。相对而言,从内部控制质量边际改善及改善效率的视角分析其对高管腐败的影响更能准确地捕捉到内部控制制度对高管腐败影响的因果关系。

基于此,选取2007-2017年沪深A股公开披露内控缺陷的上市公司为样本,区分高管隐性腐败和显性腐败,探究内控缺陷的整改及整改及时性对高管腐败的治理作用。另外,考虑到不同公司内部控制缺陷认定标准的不同,以及公司层面缺陷与会计层面缺陷的异质性,还区分了不同内控缺陷的认定标准与缺陷性质,就内控缺陷发生整改及整改时长对高管腐败治理效果的差异进行进一步研究。

总体而言,从内部控制缺陷整改的动态视角分析内部控制对企业高管腐败的治理作用,目的是揭示制度改善与腐败治理之间的内在逻辑关系;同时考虑内部控制缺陷整改效率、认定标准以及缺陷的异质性展开细化研究,以期能够挖掘出制度改善的重点与方向,为深化制度反腐工作提供可行的思路。


二、理论分析及研究假设


(一)内部控制与高管腐败

现阶段,我国已经基本确立了腐败治理的制度逻辑。在这一背景下,内部控制制度作为微观组织内部的基础性管控制度受到众多学者的关注。关于内部控制治理高管腐败的内在逻辑,从腐败的本质出发,大致归纳为以下两种观点:其一,基于腐败行为的委托代理观。认为高管腐败本质上是高管为谋取个人私利而滥用代理权的行为,属于代理问题的一种,而内部控制的产生就是为了解决经理人与股东的利益不一致引发的各种委托代理问题,其中也包括高管腐败。其二,基于腐败行为的寻租观。认为高管腐败是高管凭借手中握有的权力,以非生产性的寻租活动取代生产性的寻利活动来为自身谋取利益,而内部控制之所以能够抑制腐败,其原因在于能够有效约束权力的运用。一方面,内部控制制度强调依托于流程进行控制,通过流程的合理设计限制权力运用的空间;另一方面,内部控制强调权责的分配,通过制衡与监督使得任何管理者不能凌驾在权力之上[2,3]。总之,内部控制治理高管腐败的内在逻辑可以概括为:通过对代理权施加制约与限制,进而抑制权力滥用引发的腐败行为。

从内部控制质量的度量视角看,现有关于内部控制与高管腐败的相关研究可以分为正向度量和反向度量两个方面:其一,正向度量是指采用综合评价指数来衡量内控质量,在此基础上,学者们还引入了一系列调节变量,进一步分析不同情境下内部控制与高管腐败之间的关系,具体包括媒体关注、产权性质、高管学历水平等高管背景特征等[4,5,6]。其二,负向度量是指采用公司披露的内控缺陷来反向衡量内控质量,虽然是以内部控制是否存在缺陷来度量内控质量,但本质与正向度量并无区别,只是从另一个角度说明内部控制的总体水平。该类研究认为,内控缺陷意味着控制流程上的漏洞,给了高管腐败的空间[7]。Ashbaugh-Skaife等研究发现,与未披露缺陷的公司相比,披露内控缺陷的公司其应计质量更低[8]。此外,内部控制存在缺陷也意味着公司治理水平的低下[9,10],弱化了董事会、外部审计等治理主体对强势高管的制衡与监督。可以看出,已有研究对内部控制从正向度量和负向度量都进行了探究,但是本质上都是基于内部控制质量的总体水平分析高管腐败程度的差异。而本文则尝试从内部控制质量边际改善的视角分析高管隐性腐败和显性腐败水平的变化,并进一步考虑缺陷整改及时性、缺陷认定标准的不同及缺陷的异质性可能产生的影响。

(二)内部控制缺陷整改与高管腐败

一个完整的内控缺陷整改过程主要包括三个环节:首先,对企业现有的内部控制制度进行重新测试与评估,识别出内部控制缺陷的性质,并分析其产生原因,这是整改的基础;其次,在确定缺陷性质的基础上对内部控制缺陷进行整改;最后,公告内部控制缺陷整改结果。内部控制缺陷整改过程其实是修补内部控制制度漏洞的过程,而制度漏洞恰恰为企业高管实施腐败行为提供了空间与机会。当内部控制制度中存在的漏洞被修复后,高管实施腐败的潜在成本相当于被提高了,所以,不仅能够使高管“不能腐”,也使其“不想腐”。另外,内部控制整改结果的披露能够引发外部投资者的注意,进一步强化对内部管理者的监督,对潜在的高管腐败行为形成了外在约束,从而使高管“不敢腐”。

根据现有研究,高管腐败大致分为两类:隐性腐败和显性腐败[11]。前者主要是指奢靡的在职消费,后者包括贪污、受贿、挪用公款、职务侵占等违法违规行为。从其定义可以看出,与隐性腐败相比,显性腐败是一种明显触犯法律的行为,是权力异化的一种极端表现形式,其后果也更为严重。更重要的是,显性腐败的发生折射出的是内部控制制度中整体基础架构方面的问题。国有企业一把手在高管侵占型职务犯罪中的比例越来越高,其核心原因是权力制衡的缺失[7]。权力制衡机制缺失的背后往往反映的是权力配置不恰当以及薪酬激励不相容等公司治理结构中深层次的问题。Bedard等将其形容为“普遍性”,它决定了公司内部控制的工作基调,是建立与实施内部控制的基础,影响着组织内所有人员的控制意识和控制行为。一旦这些基础性问题发生,其整改可能意味着整个架构的重建和恢复,因此,这类缺陷的整改过程更为复杂和耗时[12]。Hammersley等研究发现,基础架构类缺陷的整改工作耗费的资源更多,成功率较低[13]。比如,假设某公司的“三重一大”制度未能有效执行,此时披露出来的内部控制缺陷体现为控制制度执行不到位。那么,在随后的整改过程中,公司可能对相关议事流程等显性指标进行补充完善,之后即宣布整改工作完成。但是,很有可能由于高管强势的工作作风使得该内控存在的问题并没有随形式上的修补而立即消失,整个公司内部控制中基础性问题的修复仍然需要经过较长的时间才能在实质上完成。总之,显性腐败的治理优化可能需要内部控制基础性架构的彻底改善,导致制度整改的治理效果滞后,所以,会弱化缺陷整改与显性腐败治理之间的相关性。基于以上分析,提出研究假设1。

H1a在其他条件相同的情况下,与内部控制缺陷未整改的公司相比,整改公司具有更低的高管隐性腐败程度。

H1b在其他条件相同的情况下,内部控制缺陷整改公司与未整改公司相比,高管显性腐败发生的概率没有明显差别。

进一步,关注内部控制缺陷整改的及时性对高管腐败可能的影响。Goh认为整改及时性与公司治理水平有着直接关系,董事会整体规模较大时,缺陷的整改效率也较高,即公司更倾向于及时地整改缺陷[14]。反之,如果缺陷整改耗费的时间长,尤其是重大缺陷及公司层面的缺陷长期得不到修复,则企业滋生隐性腐败与显性腐败的风险都将大大提高。在此,采用内部控制缺陷的整改时长来衡量整改及时性,据此提出研究假设2。

H2a在其他条件相同的情况下,内部控制缺陷整改所耗费的时间越长,高管隐性腐败程度越高。

H2b在其他条件相同的情况下,内部控制缺陷整改所耗费的时间越长,高管显性腐败发生的概率越高。


三、研究设计


(一)样本选取与数据来源

以沪深两市A股上市公司中披露内控缺陷的非金融保险类公司为研究样本,研究期间为2007-2017年。在剔除了ST公司和数据缺失的公司之后,共得到886个样本观测值。需要说明的是,在假设H2a和H2b的检验中,由于涉及的是一个完整的内控缺陷整改事件,样本观测值数量略有减少,为792个观测值。有关内控缺陷整改事件的定义详见变量度量部分中内部控制缺陷整改及整改时长的表述。本文显性腐败数据根据新闻网站手工搜集,内控缺陷数据来自迪博内部控制指数数据库,其他数据均来自CSMAR数据库。另外,对所有连续变量按照上下1%的标准进行Winsorize缩尾处理,以消除异常观测值可能对结果产生的干扰。

(二)变量度量

1.高管隐性腐败。

高管隐性腐败一般被定义为高管的超额在职消费(Overperk)。参照Luo等和权小锋等[15,16]的研究,采用以下模型对其进行计算:

公式1

其中,Perk是指实际的在职消费水平,但权小锋等的模型对其定义的口径过宽,仅将管理费用中明显不属于在职消费的项目扣除,如董事、高管以及监事会成员薪酬等费用项目,其实是夸大了实际在职消费水平,可能造成对超额在职消费水平的估值偏高。本文借鉴Cai等的做法,将在职消费数据口径定位为招待费和差旅费支出之和(ETC)[17];Asset是指企业总资产规模;ΔSale表示主营业务收入的变动金额;PPE为本期固定资产的净额;Inventory为存货总额;LnEmployee是对企业本期雇用的员工总数取自然对数。利用该模型计算出来的残差即为Overperk。

2.高管显性腐败。

采用Corrupt表示,如果公司当年发生高管腐败行为取1,否则取0。具体步骤如下:第一,以“高管腐败”“上市公司腐败”“高管贪污”“高管受贿”“高管犯罪”“高管被双规”“高管被立案调查”为关键词,在百度新闻、中国法院网、正义网等新闻网站进行搜索,如果高管以贪污腐败罪名被判决就确定为发生了高管腐败。第二,在CSMAR数据库的高管违规表和上市公司违规信息总表中,将违规担保、内幕交易等违规行为确定为腐败样本。

3.内部控制缺陷整改以及内部控制缺陷整改时长。

对于是否发生内部控制缺陷整改,采用Rem表示,如果公司披露内控缺陷2之后一年不再存在内控缺陷时取1,否则为0。对于内部控制缺陷整改时长,用Remtime表示,参考Chen等的研究,将首次披露缺陷直到整改完成为止作为一个缺陷整改事件[18]。比如,如果某公司在2008年、2009年和2010年均披露缺陷,同时2007年和2011年均没有披露内部控制缺陷,则2008-2010年为一个缺陷整改事件样本,整改时长(Remtime)是指从2008-2010年,整改了3年。

(三)模型构建

1.为了验证假设H1a,内控缺陷整改对高管隐性腐败的影响,构建如下模型:

公式2

由于研究的是内控质量边际改善对高管腐败程度变化的影响,考察的是高管腐败增量的变化,因此参考Bedard等[12]的研究,对Overperk做差分处理,用缺陷整改年份与前一年缺陷披露年份的差额表示Overperk_chg。

2.为了验证假设H1b,内控缺陷整改对高管显性腐败的影响,构建如下模型:

公式3

3.为了验证假设H2a,内控缺陷整改时长对高管隐性腐败的影响,构建如下模型:

公式4

其中,Overperk_rate为Overperk的变动率,计算方式为:

Overperk_rate=

(缺陷整改完成年份的Overperk-首次披露缺陷年份的Overperk)/首次披露缺陷年份的Overperk的绝对值。

4.为了验证假设H2b,内控缺陷整改时长对高管显性腐败的影响,构建如下模型:

公式5

其中,Corrupt_time为虚拟变量,如果整改期间内发生显性腐败则取值为1,否则取值为0。上述所有模型中的Control为控制变量,具体见表1。

表1变量定义


四、实证分析


(一)描述性统计

表2显示的是研究变量的描述性统计结果。从中可以看到,超额在职消费(隐性腐败)的均值为0,这是由超额在职消费数据来自模型残差的取值方式决定的。高管显性腐败(Corrupt)的均值为0.197,表明显性腐败占总样本的比例约为20%。内部控制缺陷整改(Rem)的均值为0.475,这表明有47.5%的公司在披露内控缺陷的下个年度进行了整改。内控缺陷整改时长(Remtime)的均值为1.782,这表明在所有披露内部控制缺陷的样本中,平均整改时间为1.78年3,最长的达6年。

表2描述性统计

(二)回归分析

表3中,第(1)列和第(2)列为内控缺陷整改与企业高管隐性腐败和显性腐败的实证回归结果,从中可以看到,第(1)列Rem的系数为-0.006,符号为负且在5%的置信水平上显著,表明与未整改样本相比,整改样本的隐性腐败(超额在职消费)增量程度更低,假设H1a得到验证;第(2)列中Rem的系数为-0.353,符号为负但不显著,表明内控缺陷整改对当期的高管显性腐败程度没有产生显著影响。究其原因可能是,只有在内部控制的监督与制衡机制完全失灵的条件下,显性腐败的发生才具备现实可行性,因此,对内部控制制度进行细枝末节式的局部性修补,其在防治显性腐败方面的作用效果可能并不明显,而且还具有一定的滞后性。

第(3)列和第(4)列为内控缺陷整改时长与企业高管隐性腐败和显性腐败的实证回归结果,从中可以看到,第(3)列中Remtime的系数为1.7,符号为正且在10%的置信水平上显著,这表明内控缺陷整改拖的时间越长,高管隐性腐败(超额在职消费)在整改期间程度越高,假设H2a得到验证。第(4)列中Remtime的系数为0.161,符号为正且在1%的置信水平上显著,这表明内控缺陷整改用的时间越长,诱发高管显性腐败的概率越大,假设H2b得到验证。

表3内部控制缺陷整改及整改时长与高管腐败的回归结果

(三)进一步分析

1.根据内部控制缺陷认定标准分组。

对于公司来讲,虽然都进行了内部控制缺陷整改,但是如果内部控制缺陷认定标准不一致,内部控制缺陷整改的意义与效果就会有较大的差别。基于此,对区分内部控制缺陷认定标准作进一步分析。首先要明确内部控制缺陷认定标准严格和宽松的定义。内部控制缺陷认定标准是管理层对于一项缺陷在何种重要性水平下才能被认定为内部控制的重大或重要缺陷的判断。一般而言,内部控制缺陷重要性水平设置越高,一项缺陷就越不容易达到重要性的门槛标准,则报告出来的重大或重要缺陷数量就相对偏少,这种情况属于内部控制认定标准宽松的情况;相反,如果内部控制缺陷重要性水平设置越低,则一项缺陷就越容易达到重要性标准,这样被曝光出来的重大或重要缺陷要相对多一些,这种情况属于内部控制缺陷认定标准严格的情况。

有关内部控制缺陷认定标准的度量,参照谭燕等的研究,采用内部控制缺陷认定标准宽严程度来度量,对利润类、收入类、资产类和权益类指标分别设置虚拟变量,并依据样本均值作为分组基准[19]。如果上述各项指标设定的下限等于或低于基准,定义为更严格的认定标准;反之,则定义为更宽松的认定标准。表4报告了分组回归的实证结果,结果表明,在内控缺陷标准更为严格的样本组,缺陷整改前后无论是隐性腐败还是显性腐败均不显著;内部控制缺陷认定标准宽松的样本组与本文实证结果一致。表明当内部控制缺陷认定标准较为宽松时,企业内部控制中存在的缺陷更容易被隐瞒下来,更容易被腐败高管察觉与利用,只有当这类缺陷整改后,企业高管腐败才能得到有效抑制。

表4根据内部控制缺陷认定的宽严标准分组回归的结果

2.考虑内部控制缺陷的异质性。

借鉴Doyle等的做法,进一步把所搜集整理的内控缺陷划分为公司层面的内控缺陷和会计层面的内控缺陷[20]。其中,公司层面的内控缺陷包括:公司审计委员会运作失灵,违规关联方交易、违规提供担保、违规贷款和自行拆解或因信息披露虚假等问题违规,内部审计职能、资金的使用存在缺陷,资金被股东占用且尚未收回,公司高管人员越权违规、被处罚或正在接受调查,公司面临重大风险(包括持续经营问题)和重大授权问题等;会计层面的内控缺陷包括:财务报告生成流程存在缺陷、发生报表重述、被出具非标审计意见。按照这一分类,将全部样本分为发生公司层面内控缺陷与发生会计层面内控缺陷两个子样本,进行分组回归。表5报告了分组回归的实证结果,结果表明:在发生会计层面内控缺陷的样本组,回归结果不具有显著性,而存在公司层面内控缺陷的样本组,回归结果与本文研究结论基本一致。说明公司层面的内控缺陷是具有“普遍性”的整体架构方面的问题,相对于其他类型的缺陷,此类缺陷的及时整改对于内部控制发挥腐败治理作用更为关键。

表5考虑内控缺陷异质性的分组回归结果

(四)稳健性测试

为了确保实证结果的稳健性,采用以下两种方式进行稳健性分析:

1.改变超额在职消费的度量方式。

借鉴翟胜宝等考虑地区差异和会议开支合理性等因素的做法,采用修正后的超额在职消费决定模型获取Overperk数据[21],并将据此测算出的Overperk_chg和Overperk_rate数值放入模型(1)和模型(3)中重新进行回归。结果如表6中第(1)列和第(3)列所示,可以发现,Rem和Remtime的系数与主回归一致。

2.显性腐败样本自选择问题的检验与纠正。

由于可能存在未被查处的“腐败黑数”,实际被爆出腐败的公司数仅是发生腐败公司总数的一部分,为避免显性腐败样本自选择偏差引起的内生性问题,采用Heckman两阶段模型进行检验与纠正,结果如表6中第(2)列和第(4)列所示。其中,第(2)列的IMR(逆米尔斯比率)系数不显著,说明显性腐败样本不存在样本选择偏差,因此可根据主回归模型(2)Rem的系数做出统计推断。第(4)列的IMR(逆米尔斯比率)系数显著,说明缺陷整改期内的显性腐败样本可能存在一定的自选择问题,原因应该与Corrupt_time变量的计算方式与具有一定关系。不过,与主回归一致,第二阶段方程中Remtime的系数在1%的置信水平上显著,说明模型中存在的样本偏差并没有影响到本文的实证结果,研究结论具有稳健性。

表6稳健性检验


五、结论与启示


以上研究表明,内部控制缺陷整改后,企业高管隐性腐败程度显著下降;整改所花费的时间越长,高管隐性腐败程度增加越快,同时显性腐败发生的概率提高。另外,进一步区分内部控制缺陷认定标准宽严程度和缺陷异质性发现,仅在内部控制缺陷认定标准较为宽松以及存在公司层面内控缺陷的样本中,内控缺陷整改前后,高管腐败程度才有明显变化。

从以上研究结论可以得到以下启示:其一,内控缺陷整改后,企业高管腐败总体程度确实下降了,但是内部控制缺陷整改应当及时,否则腐败程度可能进一步加剧,因此,相关监管部门应当及时监督企业内部控制缺陷整改情况。其二,企业内部控制缺陷认定标准应当恰当,过于宽松的认定标准所导致的内部控制缺陷很可能成为高管腐败的关键诱因。企业应当采用定性和定量相结合的方法确定重要性等级,以此提高内控缺陷认定标准的合理性和科学性。其三,对于公司层面的内控缺陷应给予更多的重视,在设计组织架构时需要强化对于最高权力主体的制衡与监督,这对于防范企业“一把手”腐败具有重要的现实意义。


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池国华,朱俊卿,郭芮佳,邹威.内部控制缺陷整改后企业高管腐败程度降低了吗?——基于高管隐性和显性腐败双重视角的实证分析[J].财经理论与实践,2020,41(03):79-87.

基金:国家自然科学基金面上项目(71772089);江苏高校“青蓝工程”资助计划(2018);南京审计大学预研基金项目(18ZDYY002).

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